Импульс тока в электрическом контуре I(t) (a,c) и магнитного поля на внутренней поверхности концентратора B1(t) (b,d) при зарядном напряжении U0 = 5,2 кВ (a,b) и 10,0 кВ (c,d) | Международный научно-исследовательский журнал

Повышение стойкости концентратора магнитного потока при генерации сильных импульсных магнитных полей

Рисунок 1 - Импульс тока в электрическом контуре I(t) (a,c) и магнитного поля на внутренней поверхности концентратора B1(t) (b,d) при зарядном напряжении U0 = 5,2 кВ (a,b) и 10,0 кВ (c,d)

Импульс тока в электрическом контуре I(t) (a,c) и магнитного поля на внутренней поверхности концентратора B1(t) (b,d) при зарядном напряжении U0 = 5,2 кВ (a,b) и 10,0 кВ (c,d)

DOI: 10.60797/IRJ.2025.155.57.2