Вернуться к статье
Формирование и исследование мемристорных элементов на основе оксидов меди и титана с использованием магнетронной технологии
Рисунок 1 - Зависимость в логарифмическом масштабе для структуры на основе пленок оксида меди с примесями оксида титана, полученного методом магнетронного распыления составной мишени:
красная кривая - при увеличении напряжения; синяя - в обратном направлении