Вернуться к статье
Формирование и исследование мемристорных элементов на основе оксидов меди и титана с использованием магнетронной технологии
Рисунок 1 - Схематическое изображение магнетронной распылительной системы:
1 – постоянный магнит; 2 – медные диски; 3 – подложка; 4 – зона распыления; 5 – составная мишень (Ti:Cu)